Вход
Регистрация
Забыли свой пароль?
Войти как пользователь:
Войти как пользователь
Вы можете войти на сайт, если вы зарегистрированы на одном из этих сервисов:
1834 год
2017 год
Сбросить

Главное меню



2012 год    январь

ОАО «НИИМЭ и Микрон» посетили журналисты ведущих российских СМИ, в том числе полуфиналисты конкурса деловой журналистики «PRESSЗВАНИЕ». Журналисты, пишущие о микроэлектронике, были приглашены на «Микрон», чтобы познакомиться с самым современным производством микрочипов в СНГ и Восточной Европе.

Представители деловых и отраслевых СМИ получили возможность лично пройти по закрытым для неспециалистов уровням завода: инфраструктурным объектам, аналитическим лабораториям, чистым комнатам, увидеть, как из кремниевых пластин выращиваются микрочипы, и пообщаться с людьми, создающими инновационную продукцию на самом современном по уровню технологий и оснащенности микроэлектронном предприятии в России.
Журналистов сопровождали сотрудники производства, они рассказали о ресурсоемкости и микроклимате чистого производства, о том, как проходит визуальный контроль качества произведенных пластин, и показали, где находится участок фотолитографии и другие производственные помещения, где создаются пластины.

По окончании встречи с журналистами Председатель Совета директоров ОАО «НИИМЭ и Микрон» Геннадий Красников отметил: «В 2009 году мы освоили производство чипов с минимальным размером элемента 180 нанометров, сейчас запускаем самое современное в России производство чипов с топологическими нормами 90 нм, первые пластины уже на технологическом маршруте. «Микрон» стремится и дальше укреплять позиции в мировой микроэлектронной отрасли, развивая собственные технологии на базе освоенного производства 180/90 нм, в том числе с перспективой перехода на 65/45 нм. Надеюсь, что государство продолжит поддерживать высокие технологии, формируя спрос на полупроводниковую продукцию, как это делают во многих развитых странах».


Вернуться назад